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詳細介紹
  • 產品名稱: 化學涂層爐
  • 產品編號: 001
  • 上架時間: 2017-07-07
  • 瀏覽次數: 100

一、設備簡介:

  化學氣相沉積設備(簡稱CVD涂層設備),主要通過高溫(1000℃)真空狀態下多種氣體或液體蒸氣在工具表面反應沉積,形成單層或多層涂層物質。從而提升工具的硬質和使用壽命,確保工具在使用過程中的高能和穩定。設備包括:1.供氣部分;2.控制部分;3.反應部分;4.尾氣排放部分;5.冷卻部分。

二、選型參考:

三、設備參數:

額定功率

 

頻率

 

額定電壓

3×400VAC

反應器腔室的數量

2

反應器腔室的直徑

530

反應器腔室的高度

1600mm

反應器腔室的可用面積

1101

空間要求

6.3m×5.9m×5.1m

最大環境溫度

40

最低環境溫度

5

最高允許大氣溫度

30-90%

安裝機房

 

最小凈空高度

 

按照區域的空間要求

 

最大容量

加熱爐區域1-4

10KW

加熱爐區域5

15KW

入口熔斷器

150A

設備重量

7T(僅供參考)


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電話:0731-2831-4769
傳真:0731-2831-4769
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